クリスタルベースは研究者の方に向けての、酸化物単結晶、半導体結晶、フッ化物・アルカリハライド単結晶、金属単結晶、合金単結晶等、あらゆる結晶を取り扱っております。
また結晶の方位出しや研磨加工等も承っております。
結晶に関することは何でもお尋ね下さい。
酸化物結晶│半導体・その他の結晶│フッ化物・アルカリハライド結晶│金属単結晶・合金単結晶
酸化物結晶
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半導体・その他の結晶
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フッ化物・アルカリハライド結晶
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金属単結晶・合金単結晶
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金属単結晶では、面内方位は有料オプションになります。
STMやAFM用などで面内方位が必要な方は、お問い合わせの際に、面内方位についてのご指定もお願い致します。
その他単結晶
上記以外にもさまざまな単結晶を取り扱いしております。 実績のあるものまたは
確認できた単結晶をご紹介します。
【酸化物単結晶】 CaNdAlO4, CaTiO3, FeO, KNbO3 NdAlO3, NdScO3, TbScO3, TGG, YIG(Y3Fe5O12)
【フッ化物・アルカリハライド単結晶】 KI, NaF, SrF2
【半導体単結晶】 Si-Ge
【その他単結晶】 Diamond, KTP, 天然マイカ, マイカ単結晶
下記のような方に、オススメします!
- 消耗品の予算を、できるだけ少なくしたい。
- 条件出しなどに、高価な基板を使うのはイヤだ。
- エッチングによる再生だけでは、キレイな表面が難しい。
ご注意事項
研磨により50〜100ミクロンほど薄くなります。
一度表面加工を完全にしてから、粗研磨、仕上研磨、メカノケミカル研磨(CMP)をいたします。
仕上げの厚みは、一番薄い素材の厚みになります。
例えば、ご支給の基板の厚みが、1mmと0.5mmでは薄い方の0.5mmに合わせて研磨することになります。 ※再研磨の数量が少ない場合や、価格の安い基板では、再研磨のコストが 割高になることがあります。 お気軽にお問い合わせください。
2011年11月3日（木）〜5日（土）つくば市で開催される第41回結晶成長国内会議(NCCG-41)
の展示会に出展します。ブース番号はNo.23です。
2010年9月14日（火）〜17日（金）長崎大学で開催される2010年秋季 第71回応用物理学会学術講演
会の展示会に出展します。ブース番号はNo.4-11です。
2009年9月7日（火）〜11日（金）富山大学で開催される2009年秋季 第70回応用物理学会学術講演
会の展示会に出展します。ブース番号はNo.1-12です。
2008年9月2日（火）〜5日（金）中部大学で開催される2008年秋季 第69回応用物理学会学術講演
会の展示会に出展します。ブース番号はNo.2-44です。
- 2008.6.30
下記のように会社所在地が移転しました。住所録などの変更をお願いいたします。 - 2008.6.30
ホームページをリニューアルいたしました。お役立ち情報なども掲載しておりますので、ご覧下さい。
